Reinigingsmethode waarbij SC-1 (ammonia en waterstofperoxide) deeltjes en organische stoffen verwijdert en SC-2 (zoutzuur en waterstofperoxide) metaalverontreiniging.
Japanse benaming: RCA洗浄
“RCA-reiniging” komt voor in 2 oefenvragen uit 1 onderwerpen, bijv. CMP en reiniging.
Vakgebied: CMP en reiniging
Antwoord: B. Verwijderen van deeltjes en organische stoffen
SC-1 (NH4OH:H2O2:H2O, bijvoorbeeld 1:1:5, circa 70 ℃) oxideert het oppervlak met waterstofperoxide en lost die oxidefilm met ammonia langzaam op, met circa 0,1 tot 1 nm per minuut, waardoor deeltjes van onderaf worden losgemaakt en verwijderd. In alkalische omgeving laden deeltjes en oppervlak beide negatief op en stoten elkaar af, zodat opnieuw aanhechten moeilijk is. Het is ook effectief tegen organische stoffen. Voor het verwijderen van metaalverontreiniging wordt SC-2 gebruikt en voor natuurlijk oxide verdund fluorwaterstofzuur.
Antwoord: A. Na het verwijderen van deeltjes en organische stoffen met SC-1 wordt metaalverontreiniging met SC-2 verwijderd
RCA-reiniging is een methode die in 1970 door Kern en anderen van RCA werd gepubliceerd. De basisvolgorde is dat eerst met alkalische SC-1 deeltjes en organische stoffen worden verwijderd en daarna met zure SC-2 (HCl:H2O2:H2O) de metaalverontreiniging, die bij SC-1 gemakkelijk aanhecht, als chloride wordt opgelost en verwijderd. Zo nodig wordt daartussen met verdund fluorwaterstofzuur de oxidefilm verwijderd en tussen de stappen met ultrazuiver water gespoeld. Ook na meer dan 50 jaar wordt ze, verbeterd, nog als basis van reiniging gebruikt.
RCA-reiniging is een methode die in 1970 door Kern en anderen van RCA werd gepubliceerd.
Welke combinatie van volgorde en doel van SC-1 en SC-2 bij …SC-1 (APM) SC-2 (HPM) Verdund fluorwaterstofzuur (DHF) Natuurlijk oxide (native oxide) Numerieke apertuur (NA) Ceria (ceriumoxide) CMP Dishing Erosie (erosion) Megasonisch reinigen