Élément qui reçoit le faisceau d'ions et mesure le courant correspondant. Utilisé dans les implanteurs ioniques pour déterminer la quantité d'ions implantés (dose).
Nom japonais: ファラデーカップ
« Cage de Faraday » apparaît dans 4 questions d'entraînement réparties sur 1 thèmes, dont Implantation ionique.
Domaine: Implantation ionique
Réponse : B. Balayer le faisceau ou le wafer pour exposer uniformément toute la surface du wafer
Le faisceau d'ions étant plus petit que le wafer, on implante en balayant toute la surface : déviation latérale du faisceau par champ électrique ou magnétique, déplacement mécanique du wafer, ou faisceau élargi en ruban avec déplacement du wafer dans une direction. En corrigeant la vitesse de balayage selon la position et en mesurant le profil du faisceau par cage de Faraday pour rétroaction, on limite la non-uniformité de dose sur le wafer à environ 0,5 % ou moins.
Réponse : A. Cage de Faraday
La cage de Faraday est une électrode en forme de coupelle qui reçoit le faisceau d'ions et mesure sa charge sous forme de courant. La charge par ion étant connue, l'intégration du courant dans le temps donne le nombre d'ions implantés (dose), et l'implantation est arrêtée lorsque la cible est atteinte. Si les électrons secondaires émis par l'impact du faisceau s'échappent, le courant est mal mesuré ; la structure confine donc les électrons par champ magnétique ou électrodes.
En corrigeant la vitesse de balayage selon la position et en mesurant le profil du faisceau par cage de Faraday pour rétroaction, on limite la non-uniformité de dose sur le wafer à environ 0,5 % ou moins.
Quelle méthode permet d'uniformiser la dose sur la surface …La cage de Faraday est une électrode en forme de coupelle qui reçoit le faisceau d'ions et mesure sa charge sous forme de courant.
Dans un implanteur ionique, quel composant mesure le couran…Les particules neutralisées ne sont pas comptées par la cage de Faraday et ne peuvent être contrôlées par les champs de balayage ou de décélération ; l'implantation ne se fait alors plus à l'emplacement, l'énergie et la dose visés.
Quelle est la principale raison pour laquelle le trajet du …Le faisceau est ensuite balayé pour implanter uniformément toute la surface du wafer, et la dose est mesurée par cage de Faraday.
Dans un implanteur ionique typique, quel est l'ordre correc…Dose Implantation ionique Vitesse de balayage (slew rate) MOL (middle-of-line) Plasma Caisson rétrograde (retrograde well) Canalisation (channeling) Diffusion accélérée transitoire (TED) Dopage plasma Effet d'ombrage (shadowing)