Implantation ionique

Quelle est la principale raison pour laquelle le trajet du faisceau d'un implanteur ionique est maintenu sous vide poussé ?

  1. APour alléger l'équipement
  2. BPour refroidir le wafer
  3. CPour éviter que les ions ne soient diffusés ou neutralisés par collision avec des molécules de gaz
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Réponse : C. Pour éviter que les ions ne soient diffusés ou neutralisés par collision avec des molécules de gaz

Si du gaz subsiste sur le trajet du faisceau, les ions entrent en collision avec ses molécules et changent de direction, ou perdent leur charge et deviennent neutres. Les particules neutralisées ne sont pas comptées par la cage de Faraday et ne peuvent être contrôlées par les champs de balayage ou de décélération ; l'implantation ne se fait alors plus à l'emplacement, l'énergie et la dose visés. La ligne de faisceau est donc maintenue sous vide poussé, environ 10⁻⁴ Pa ou moins, et le pompage des gaz dégagés par la résine est également important.

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