下列關於逐片處理晶圓之單晶圓式清洗設備的優點，何者正確？

正確答案：C. 晶圓之間不易發生交互汙染，且容易逐片控制處理條件

單晶圓式清洗是將藥液從噴嘴噴灑到旋轉的晶圓上逐片處理，因此汙染不易從其他晶圓轉移過來，可逐片精細控制藥液的溫度、流量與時間，也能分別清洗正面、背面與外圍。將多片晶圓浸入藥液槽的批次式雖然處理能力高、藥液用量也少，但有交互汙染的風險。先進製程中單晶圓式的比例持續增加，主要廠商有SCREEN與東京威力科創（Tokyo Electron）。