什麼是ArF準分子雷射

使用氬與氟、發出波長193 nm紫外光的雷射。與浸潤技術結合的ArF浸潤式微影,是與EUV並列的先進曝光技術。波長248 nm的則是KrF準分子雷射。

日文名稱: ArFエキシマレーザー

「ArF準分子雷射」出現在1領域的1道練習題中(製程材料(氣體與藥液)等)。

這個名詞所屬的領域: 微影

練習ArF準分子雷射的題目

作為ArF準分子雷射振盪所用的氣體組合,下列何者適當?

  1. A氧與氮
  2. B僅氫與氦
  3. C氬與氟(含氖等緩衝氣體)
查看答案與解析

正確答案:C. 氬與氟(含氖等緩衝氣體)

ArF準分子雷射是以放電激發將少量的氬與氟以氖緩衝氣體稀釋後的混合氣體,發出波長193 nm的光。準分子(excimer)是指僅在激發態才會鍵結的分子(excited dimer),回到基態就會分開,因此能有效率地得到紫外光。KrF準分子雷射(248 nm)使用氪與氟。氧與氮、氫與氦都無法發出193 nm的光。

解析中的「ArF準分子雷射」

出現「ArF準分子雷射」的題目(1題)

  1. 作為ArF準分子雷射振盪所用的氣體組合,下列何者適當?

相關名詞

化學放大型光阻 正型光阻 光阻 光罩(Reticle) 光罩護膜 多重圖案化 抗反射底層膜(BARC) 奈米壓印微影 相位移光罩 浸潤式微影

前往名詞解釋列表