領域選択成膜란?

りょういきせんたくせいまく

下地の材料の違いを利用して、特定の場所だけに膜を成長させる技術。リソグラフィやエッチングの工程を減らせるため、先端の配線などで研究・導入が進んでいる。

일본어 명칭: 領域選択成膜

분야: 박막 증착(CVD와 PVD)

관련 용어

反応性スパッタリング 電解めっき 真空蒸着 静電チャック ALD CVD HDP-CVD(高密度プラズマCVD) LPCVD(減圧CVD) PECVD(プラズマCVD) TEOS

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