ReRAM(抵抗変化メモリ)とは
りらむ
電圧をかけて酸化物などの中に導電パスをつくったり切ったりし、抵抗の違いで情報を記憶する不揮発性メモリ。
この用語の分野: 次世代メモリ
りらむ
電圧をかけて酸化物などの中に導電パスをつくったり切ったりし、抵抗の違いで情報を記憶する不揮発性メモリ。
この用語の分野: 次世代メモリ
ReRAMは、金属酸化物などの薄膜を電極ではさんだ単純な構造で、電圧を加えると膜中の酸素欠損が集まった導電性フィラメントができたり切れたりして、抵抗が10倍以上変わります。
ReRAM(抵抗変化メモリ)の記憶原理として正しいものはどれか。ReRAMの多くは製造直後は高抵抗で、最初に通常動作より高い電圧を加えて酸素欠損などの導電パスをつくる必要があります。
ReRAMで、最初に比較的高い電圧を加えて導電性フィラメントをつくる初期化工程を何と呼ぶか。ReRAMには、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化チタンなどの金属酸化物がよく使われます。
ReRAMの抵抗変化層として研究・実用化されている材料の例として正しいものはどれか。MRAM マイコン(マイクロコントローラ) FeRAM(強誘電体メモリ) フォーミング CMOS フローティングゲート High-k/メタルゲート PCM(相変化メモリ) インメモリコンピューティング SOT-MRAM