スパッタリングによる成膜は、次のどれに分類されるか。

正解：A. PVD(物理気相成長)

スパッタリングは、プラズマ中のイオンをターゲットに衝突させ、はじき出された原子をウエハに堆積させる方法で、物理的な現象を利用するPVDに分類されます。金属配線やバリアメタルの成膜などに使われます。