プラズマCVDのシリコン窒化膜の応力を、圧縮から引っ張りまで調整する方法として使われるものはどれか。

正解：B. 高周波と低周波のRF電力の比率などを変え、膜へのイオン衝撃の強さを調整する

プラズマCVDでは、低い周波数のRF電力を加えるとイオンが膜を強くたたき、膜が締まって圧縮応力になりやすくなります。高周波と低周波の電力の比などを変えることで、応力を圧縮から引っ張りまで調整できます。トランジスタにひずみを加えるストレスライナー膜などにも利用されます。

• A. 水で洗っても応力は調整できません。
• B. 正しい。RF電力の条件でイオン衝撃を調整します。
• C. ウエハの直径で応力を調整するわけではありません。