Mengsel van zoutzuur, waterstofperoxide en water. Wordt bij RCA-reiniging na SC-1 gebruikt om metaalverontreiniging te verwijderen.
Japanse benaming: SC-2(HPM)
“SC-2 (HPM)” komt voor in 4 oefenvragen uit 1 onderwerpen, bijv. CMP en reiniging.
Vakgebied: CMP en reiniging
Antwoord: A. Na het verwijderen van deeltjes en organische stoffen met SC-1 wordt metaalverontreiniging met SC-2 verwijderd
RCA-reiniging is een methode die in 1970 door Kern en anderen van RCA werd gepubliceerd. De basisvolgorde is dat eerst met alkalische SC-1 deeltjes en organische stoffen worden verwijderd en daarna met zure SC-2 (HCl:H2O2:H2O) de metaalverontreiniging, die bij SC-1 gemakkelijk aanhecht, als chloride wordt opgelost en verwijderd. Zo nodig wordt daartussen met verdund fluorwaterstofzuur de oxidefilm verwijderd en tussen de stappen met ultrazuiver water gespoeld. Ook na meer dan 50 jaar wordt ze, verbeterd, nog als basis van reiniging gebruikt.
De basisvolgorde is dat eerst met alkalische SC-1 deeltjes en organische stoffen worden verwijderd en daarna met zure SC-2 (HCl:H2O2:H2O) de metaalverontreiniging, die bij SC-1 gemakkelijk aanhecht, als chloride wordt opgelost en verwijderd.
Welke combinatie van volgorde en doel van SC-1 en SC-2 bij …Voor het verwijderen van metaalverontreiniging wordt SC-2 gebruikt en voor natuurlijk oxide verdund fluorwaterstofzuur.
Wat is het belangrijkste doel van SC-1 (mengsel van ammonia…Voor het verwijderen van organische stoffen en deeltjes wordt SC-1 gebruikt en voor metaalverontreiniging SC-2.
Wat is het belangrijkste doel van reiniging met verdund flu…Elk wordt verwijderd door een geschikte chemische oplossing (SC-1, SC-2, SPM, verdund fluorwaterstofzuur enz.) te combineren met fysieke krachten (borstel, megasoon), waarbij tegelijk wordt vereist dat het materiaal niet wordt aangetast.
Welke combinatie van soorten verontreiniging op het waferop…SC-1 (APM) Verdund fluorwaterstofzuur (DHF) RCA-reiniging Numerieke apertuur (NA) Natuurlijk oxide (native oxide) Epitaxiale groei SPM (sulfuric peroxide mixture) Ceria (ceriumoxide) CMP Dishing