Was ist SC-2 (HPM)?
Gemisch aus Salzsäure, Wasserstoffperoxid und Wasser, das bei der RCA-Reinigung nach SC-1 zur Entfernung metallischer Verunreinigungen dient.
Japanische Bezeichnung: SC-2(HPM)
Fachgebiet: CMP und Reinigung
Verwandte Begriffe
Ceroxid (Ceria) CMP (chemisch-mechanisches Polieren) Dishing (Muldenbildung) Einzelwaferreinigung Erosion Megasonic-Reinigung Natives Oxid Pad-Konditionierung Prestonsche Gleichung RCA-Reinigung