Nederlands
Menu

CMP en reiniging

Welke combinatie van volgorde en doel van SC-1 en SC-2 bij standaard RCA-reiniging is juist?

  1. ANa het verwijderen van deeltjes en organische stoffen met SC-1 wordt metaalverontreiniging met SC-2 verwijderd
  2. BNa het verwijderen van deeltjes met SC-2 wordt metaalverontreiniging met SC-1 verwijderd
  3. CSC-1 en SC-2 worden gemengd en tegelijk gebruikt
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. Na het verwijderen van deeltjes en organische stoffen met SC-1 wordt metaalverontreiniging met SC-2 verwijderd

RCA-reiniging is een methode die in 1970 door Kern en anderen van RCA werd gepubliceerd. De basisvolgorde is dat eerst met alkalische SC-1 deeltjes en organische stoffen worden verwijderd en daarna met zure SC-2 (HCl:H2O2:H2O) de metaalverontreiniging, die bij SC-1 gemakkelijk aanhecht, als chloride wordt opgelost en verwijderd. Zo nodig wordt daartussen met verdund fluorwaterstofzuur de oxidefilm verwijderd en tussen de stappen met ultrazuiver water gespoeld. Ook na meer dan 50 jaar wordt ze, verbeterd, nog als basis van reiniging gebruikt.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over CMP en reiniging

  1. Wat is de belangrijkste oorzaak van het omvallen van patronen bij het reinigen en drogen van patronen met een hoge aspectverhouding?
  2. Welke reden om bij wolfraam-CMP een oxidatiemiddel zoals waterstofperoxide aan de slurry toe te voegen is juist?
  3. Welke maatregel in het ontwerp tegen het feit dat de polijsthoeveelheid bij CMP afhangt van de patroondichtheid binnen de chip is juist?
  4. Welke richtwaarde voor de grootte van de schuurdeeltjes in CMP-slurry is juist?
  5. Wat is het belangrijkste doel van het verdunnen van chemicaliën of het gebruik van functioneel water in recente reinigingsprocessen?