Empirische vergelijking volgens welke de polijstsnelheid bij CMP evenredig is met het product van polijstdruk en relatieve snelheid tussen pad en wafer.
Japanse benaming: プレストンの式
“Vergelijking van Preston” komt voor in 2 oefenvragen uit 1 onderwerpen, bijv. CMP en reiniging.
Vakgebied: CMP en reiniging
Antwoord: C. Het product van polijstdruk en relatieve snelheid tussen pad en wafer
De vergelijking van Preston is een empirische formule "polijstsnelheid = k × druk × relatieve snelheid", in 1927 gegeven voor het polijsten van glas. Als druk of toerental wordt verdubbeld, verdubbelt ook de polijstsnelheid ongeveer, zodat ze de basis vormt van het ontwerp van polijstcondities. De evenredigheidsconstante k hangt af van de slurry, de pad en het type film. Dat verhogingen een hogere lokale druk hebben en sneller worden weggenomen, is ook de reden dat CMP kan planariseren.
De vergelijking van Preston is een empirische formule "polijstsnelheid = k × druk × relatieve snelheid", in 1927 gegeven voor het polijsten van glas.
Welke grootheid is volgens de vergelijking van Preston, die…Omdat de polijstsnelheid vrijwel evenredig is met de aandrukdruk (vergelijking van Preston), wordt het rubberen membraan in de kop in meerdere concentrische zones (circa 5 tot 10) verdeeld en kan de polijsthoeveelheid per plaats op de wafer worden bijgesteld door de luchtdruk per zone te variëren.
Wat is het belangrijkste doel om in de CMP-polijstkop de dr…CMP Slurry Numerieke apertuur (NA) Ceria (ceriumoxide) Dishing Erosie (erosion) Megasonisch reinigen Natuurlijk oxide (native oxide) Padconditionering Patroonineenstorting (pattern collapse)