Was ist Prestonsche Gleichung?
Empirische Regel, nach der die CMP-Abtragsrate proportional zum Produkt aus Polierdruck und Relativgeschwindigkeit zwischen Pad und Wafer ist.
Japanische Bezeichnung: プレストンの式
Fachgebiet: CMP und Reinigung
Verwandte Begriffe
Ceroxid (Ceria) CMP (chemisch-mechanisches Polieren) Dishing (Muldenbildung) Einzelwaferreinigung Erosion Megasonic-Reinigung Natives Oxid Pad-Konditionierung RCA-Reinigung SC-1 (APM)