CMP en reiniging
Welke grootheid is volgens de vergelijking van Preston, die de polijstsnelheid bij CMP beschrijft, evenredig met de polijstsnelheid?
- ADe kleur van de slurry
- BDe diameter van de wafer
- CHet product van polijstdruk en relatieve snelheid tussen pad en wafer
Antwoord en toelichting tonen
Antwoord: C. Het product van polijstdruk en relatieve snelheid tussen pad en wafer
De vergelijking van Preston is een empirische formule "polijstsnelheid = k × druk × relatieve snelheid", in 1927 gegeven voor het polijsten van glas. Als druk of toerental wordt verdubbeld, verdubbelt ook de polijstsnelheid ongeveer, zodat ze de basis vormt van het ontwerp van polijstcondities. De evenredigheidsconstante k hangt af van de slurry, de pad en het type film. Dat verhogingen een hogere lokale druk hebben en sneller worden weggenomen, is ook de reden dat CMP kan planariseren.