什麼是鳥嘴效應

LOCOS中，氧化膜如鳥嘴般侵蝕到氮化膜遮罩邊緣下方的現象。由於會減少元件的有效面積，在微縮時已被STI取代。

日文名稱: バーズビーク

「鳥嘴效應」出現在1領域的1道練習題中（氧化與擴散等）。

這個名詞所屬的領域: 氧化與擴散

練習鳥嘴效應的題目

在 LOCOS（選擇性氧化）中，氧化層像鳥嘴般侵入氮化膜遮罩邊緣下方的現象稱為什麼？

  1. A碟形凹陷
  2. B缺口效應
  3. C鳥嘴效應
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正確答案：C. 鳥嘴效應

在 LOCOS 中，被氮化膜覆蓋的部分不會被氧化，但氧化劑會通過氮化膜下方的墊氧化層從側面擴散而使氧化進行，因此氧化層像鳥嘴一樣侵入（鳥嘴效應）。侵入量單側可達氧化層厚度的一半左右，使元件的有效面積減少，所以大約在 0.25 µm 世代起被使用溝槽的 STI 取代。墊氧化層是為了保護矽免受氮化膜的應力而必須存在的。

解析中的「鳥嘴效應」

出現「鳥嘴效應」的題目（1題）

  1. 在 LOCOS（選擇性氧化）中，氧化層像鳥嘴般侵入氮化膜遮罩邊緣下方的現象稱為什麼？

相關名詞

LOCOS(局部矽氧化隔離) STI(淺溝槽隔離) 可動離子 合成氣體退火 界面能態 氧化增強擴散(OED) 乾式氧化 氮氧化矽膜(SiON) 熱氧化 熱擴散

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