微影

在設計好的佈局中,經曝光與加工的模擬後,被預測圖案容易相連或斷開的脆弱位置稱為什麼?

  1. A熱點(hotspot)
  2. B缺口(notch)
  3. C切割道(dicing line)
查看答案與解析

正確答案:A. 熱點(hotspot)

熱點是佈局中,面對曝光量或對焦的變動,圖案容易短路(橋接,bridge)或斷線(縮頸,pinch)的位置。即使滿足設計規則,也可能因與周圍圖案的組合而產生。可預先透過微影模擬或圖案比對(pattern matching)找出,並以修改佈局、調整OPC,以及在晶圓上重點檢測來因應。

  • A. 正確。是容易造成不良的脆弱位置。
  • B. 缺口是晶圓外圍的切口。
  • C. 切割道是用來切分晶片的線。
練習這個領域 前往領域頁面

微影的其他題目

  1. 在EUV曝光中,光阻所釋出的氣體(逸氣,outgas)一直被視為問題,其主要理由為下列何者?
  2. 根據解析度公式 R = k1 × λ / NA,下列何者是提升解析度(縮小R)的正確方法?
  3. EUV曝光所使用的光,其波長為下列何者?
  4. 關於正型光阻的說明,下列何者正確?
  5. 關於ArF浸潤式曝光的說明,下列何者正確?

這個領域的比較