微影

旋轉塗佈光阻後,以溶劑去除晶圓外圍隆起之光阻的處理稱為什麼?

  1. A灰化(ashing)
  2. B邊緣珠狀物去除(edge bead removal)
  3. C曝光後烘烤
查看答案與解析

正確答案:B. 邊緣珠狀物去除(edge bead removal)

在旋轉塗佈中,晶圓外圍的光阻會因表面張力而厚厚地隆起(邊緣珠狀物,edge bead)。若殘留下來,會在搬運時剝落成為微粒,弄髒設備的夾盤或曝光機的載台,也會使外圍的對焦失準,因此要對外圍數mm噴灑溶劑將其去除(EBR)。此外,也會進行清洗繞到背面之光阻的背面清洗(backside rinse)。

  • A. 灰化是以電漿等去除整層光阻的處理。
  • B. 正確。是去除外圍隆起光阻的處理。
  • C. 曝光後烘烤是曝光後進行的加熱處理。
練習這個領域 前往領域頁面

微影的其他題目

  1. 目前的掃描式曝光機,一次曝光(1個曝光區)在晶圓上能曝光的最大區域大小,一般為下列何者?
  2. 以電腦同時最佳化曝光機的照明形狀與光罩圖案,藉此提高解析度的技術是下列何者?
  3. 在數值孔徑(NA)非常大的浸潤式曝光中,必須考慮光之偏振的理由,下列何者正確?
  4. EUV曝光中成為問題的「眩光(flare)」,其主要原因下列何者正確?
  5. 在EUV光罩中,吸收體圖案的厚度相對於波長已不可忽略,斜向入射的光會形成陰影等而影響影像,這種現象稱為什麼?

這個領域的比較