ひずみシリコンとは
ひずみしりこん
結晶にひずみを加えてバンド構造を変え、キャリアの移動度を高めたシリコン。nMOSには引っ張り、pMOSには圧縮のひずみが有効で、ソース・ドレインのSiGeや窒化膜などで加える。
この用語の分野: エピタキシャル成長
ひずみしりこん
結晶にひずみを加えてバンド構造を変え、キャリアの移動度を高めたシリコン。nMOSには引っ張り、pMOSには圧縮のひずみが有効で、ソース・ドレインのSiGeや窒化膜などで加える。
この用語の分野: エピタキシャル成長
シリコンの格子定数(0.543 nm)はSiGeより小さいため、緩和したSiGeの上に薄いシリコンを成長させると、原子の間隔がSiGeに合わせて面内に引き伸ばされ、引っ張りひずみが生じます(ひずみシリコン)。
格子定数の大きい緩和したSiGe層の上に、薄いシリコン層をエピタキシャル成長させたとき、シリコン層に生じるひずみはどれ…SiGe(シリコンゲルマニウム) エピタキシャル成長 有効質量 移動度 HVPE(ハイドライド気相成長) MOCVD(有機金属気相成長) MBE(分子線エピタキシー) オートドーピング 貫通転位 格子不整合