什麼是應變矽

對晶體施加應變以改變能帶結構,提高載子遷移率的矽。對nMOS施加拉伸、對pMOS施加壓縮的應變有效,以源極、汲極的SiGe或氮化膜等來施加。

日文名稱: ひずみシリコン

「應變矽」出現在1領域的1道練習題中(磊晶成長等)。

這個名詞所屬的領域: 磊晶成長

練習應變矽的題目

在晶格常數較大且已鬆弛的SiGe層上磊晶成長薄矽層時,矽層中產生的應變為下列何者?

  1. A壓縮應變
  2. B不產生應變
  3. C拉伸應變
查看答案與解析

正確答案:C. 拉伸應變

矽的晶格常數(0.543 nm)比SiGe小,因此在已鬆弛的SiGe上成長薄矽時,原子間距會配合SiGe在面內被拉長,產生拉伸應變(應變矽)。應變使導帶的能谷分裂,電子集中到有效質量輕的能谷,散射也減少,因此電子遷移率提高為1.5~2倍,一直被用於提升nMOS的性能。

解析中的「應變矽」

出現「應變矽」的題目(1題)

  1. 在晶格常數較大且已鬆弛的SiGe層上磊晶成長薄矽層時,矽層中產生的應變為下列何者?

相關名詞

SiGe(矽鍺) 磊晶成長 有效質量 遷移率 4H-SiC 自摻雜 異質磊晶 貫穿差排 晶格不匹配 超晶格

前往名詞解釋列表