什麼是應變矽
對晶體施加應變以改變能帶結構,提高載子遷移率的矽。對nMOS施加拉伸、對pMOS施加壓縮的應變有效,以源極、汲極的SiGe或氮化膜等來施加。
日文名稱: ひずみシリコン
「應變矽」出現在1領域的1道練習題中(磊晶成長等)。
這個名詞所屬的領域: 磊晶成長
對晶體施加應變以改變能帶結構,提高載子遷移率的矽。對nMOS施加拉伸、對pMOS施加壓縮的應變有效,以源極、汲極的SiGe或氮化膜等來施加。
日文名稱: ひずみシリコン
「應變矽」出現在1領域的1道練習題中(磊晶成長等)。
這個名詞所屬的領域: 磊晶成長
矽的晶格常數(0.543 nm)比SiGe小,因此在已鬆弛的SiGe上成長薄矽時,原子間距會配合SiGe在面內被拉長,產生拉伸應變(應變矽)。
在晶格常數較大且已鬆弛的SiGe層上磊晶成長薄矽層時,矽層中產生的應變為下列何者?