포토리소그래피
노광 장비의 조명 모양과 마스크 패턴을 컴퓨터로 동시에 최적화하여 해상성을 높이는 기술은?
- ASMO(소스·마스크 최적화)
- BCMP
- CALD
정답과 해설 보기
정답: A. SMO(소스·마스크 최적화)
SMO(Source Mask Optimization)는 노광 장비의 조명 모양(동공면에서의 광원 분포)과 OPC를 포함한 마스크 패턴을 컴퓨터로 함께 최적화하여 공정 윈도를 넓히는 기술입니다. 나아가 웨이퍼 위에서 원하는 모양으로부터 마스크를 역산하여 자유로운 곡선 패턴을 생성하는 ILT(역 리소그래피 기술)도, 멀티빔 묘화로 곡선을 그릴 수 있게 되면서 사용되기 시작했습니다. 계산량이 방대하여 GPU 등으로 고속화됩니다.
- A. 올바릅니다. 조명과 마스크를 동시에 최적화합니다.
- B. CMP는 연마로 평탄화하는 공정입니다.
- C. ALD는 원자층 단위로 막을 입히는 성막 기술입니다.