Warmtebehandeling waarbij wafers één voor één met lampen of dergelijke in korte tijd van enkele seconden tot hoge temperatuur worden verhit. Maakt gloeien en het vormen van dunne oxidefilms mogelijk terwijl overbodige diffusie van onzuiverheden wordt beperkt.
Japanse benaming: RTP(急速熱処理)
“RTP (rapid thermal processing)” komt voor in 2 oefenvragen uit 1 onderwerpen, bijv. Oxidatie en diffusie.
Vakgebied: Oxidatie en diffusie
Antwoord: A. Verticale warmtebehandelingsoven (diffusieoven)
Voor thermische oxidatie, diffusie en gloeien wordt vaak een verticale warmtebehandelingsoven gebruikt, waarin ongeveer 100 wafers verticaal gestapeld in een kwartsreactiebuis worden verhit. De temperatuur in de buis is gelijkmatig, per run kunnen veel wafers worden verwerkt, en omdat de wafers van onderaf worden in- en uitgevoerd, kan het meenemen van lucht worden beperkt. Bekende fabrikanten zijn Tokyo Electron en Kokusai Electric. Als een korte warmtebehandeling van enkele seconden nodig is, worden RTP-apparaten gebruikt die wafer voor wafer met lampen verhitten.
Antwoord: B. RTP (rapid thermal processing)
RTP is een warmtebehandeling waarbij wafers met bijvoorbeeld halogeenlampen met een snelheid van enkele tientallen tot honderden °C per seconde worden verhit en gekoeld, en slechts enkele seconden aan temperaturen boven 1000 °C worden blootgesteld. Omdat de tijd bij hoge temperatuur kort is, kunnen na implantatie activeringsanneal en vorming van dunne oxidefilms worden uitgevoerd terwijl onzuiverheidsdiffusie wordt onderdrukt. Flash-lampanneal en laseranneal, waarbij de verhittingstijd verder is bekort tot milliseconden of minder, worden eveneens gebruikt voor het vormen van ondiepe overgangen in geavanceerde processen.
Als een korte warmtebehandeling van enkele seconden nodig is, worden RTP-apparaten gebruikt die wafer voor wafer met lampen verhitten.
Welk apparaat wordt in het algemeen gebruikt om veel wafers…RTP is een warmtebehandeling waarbij wafers met bijvoorbeeld halogeenlampen met een snelheid van enkele tientallen tot honderden °C per seconde worden verhit en gekoeld, en slechts enkele seconden aan temperaturen boven 1000 °C worden blootgesteld.
Hoe heet de warmtebehandeling waarbij wafers één voor één m…Thermische oxidatie Gloeien (annealing) Numerieke apertuur (NA) Laseranneal Deal-Grove-model Drive-in Droge oxidatie Forming-gasanneal Grensvlaktoestanden (interface traps) LOCOS