Thermische oxidatie met droge zuurstof. De groei is langzaam, maar het oxide is dicht en van goede kwaliteit; wordt onder meer gebruikt voor gate-oxide.
Japanse benaming: ドライ酸化
“Droge oxidatie” komt voor in 5 oefenvragen uit 1 onderwerpen, bijv. Oxidatie en diffusie.
Vakgebied: Oxidatie en diffusie
Antwoord: B. Natte oxidatie laat de oxidefilm sneller groeien
Bij natte oxidatie met waterdamp is de oplosbaarheid van het oxidatiemiddel H2O in SiO2 honderden keren hoger dan die van O2, zodat de groeisnelheid enkele tot ongeveer 10 keer hoger is dan bij droge oxidatie. Bij 1000 °C en 1 uur is dat bijvoorbeeld ongeveer 70 nm droog en ongeveer 400 nm nat. Natte oxidatie is geschikt voor dikke films voor elementisolatie en maskers. Droge oxidatie is langzaam, maar geeft een dichte film van goede kwaliteit met weinig grensvlaktoestanden en een goed beheersbare dikte, en is daarom gebruikt voor dunne gate-oxiden.
Antwoord: A. De initiële oxidatie verloopt sneller dan het model voorspelt
Het Deal-Grove-model beschrijft de groei van dikke oxidefilms goed, maar bij droge oxidatie verloopt de feitelijke oxidatie in het beginstadium, bij een dikte van enkele tientallen nm of minder, sneller dan het model voorspelt. Als oorzaken worden een andere route van het oxidatiemiddel door de dunne film en de invloed van spanning nabij het grensvlak beschouwd. In het model wordt dit gecorrigeerd met een initiële dikte (τ, gelijk aan ongeveer 20 nm), maar om de dikte van enkele nm dunne gate-oxiden te bepalen is het onmisbaar de omstandigheden door metingen vast te stellen.
Bij natte oxidatie met waterdamp is de oplosbaarheid van het oxidatiemiddel H2O in SiO2 honderden keren hoger dan die van O2, zodat de groeisnelheid enkele tot ongeveer 10 keer hoger is dan bij droge oxidatie.
Welke vergelijking van droge oxidatie (O2) en natte oxidati…Het Deal-Grove-model beschrijft de groei van dikke oxidefilms goed, maar bij droge oxidatie verloopt de feitelijke oxidatie in het beginstadium, bij een dikte van enkele tientallen nm of minder, sneller dan het model voorspelt.
Welke afwijking van het Deal-Grove-model is bekend bij het …Voor dikke films in korte tijd wordt natte oxidatie bij hoge temperatuur gebruikt, terwijl dunne gate-oxiden voor nauwkeurige dikteregeling bij lage temperatuur of met droge oxidatie over langere tijd worden gemaakt.
Wat gebeurt er met de dikte van de oxidefilm die in dezelfd…Bij droge oxidatie reageren silicium en zuurstof bij hoge temperatuur tot siliciumdioxide (Si + O2 → SiO2).
Welke chemische reactie vindt plaats bij droge thermische o…De overgang ligt bij een dikte van ongeveer A/2, bij droge oxidatie bij enkele tientallen nm tot ongeveer 100 nm.
Welke relatie tussen oxidedikte en tijd is juist in het beg…Thermische oxidatie Natte oxidatie Deal-Grove-model Oplosbaarheid (solid solubility) Grensvlaktoestanden (interface traps) Drive-in Forming-gasanneal LOCOS Mobiele ionen Oxidatiegestimuleerde diffusie (OED)