Was ist RTP (schnelle thermische Behandlung)?
Erhitzen einzelner Wafer für wenige Sekunden auf hohe Temperatur, meist mit Lampen. Es ermöglicht Ausheilen und Wachstum dünner Oxide bei begrenzter unerwünschter Dotierstoffdiffusion.
Japanische Bezeichnung: RTP(急速熱処理)
Fachgebiet: Oxidation und Diffusion