Oxidatie en diffusie

Hoe heet de warmtebehandeling waarbij wafers één voor één met bijvoorbeeld lampen in enkele seconden kort op hoge temperatuur worden gebracht?

  1. ABatchovenanneal
  2. BRTP (rapid thermal processing)
  3. CCMP
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. RTP (rapid thermal processing)

RTP is een warmtebehandeling waarbij wafers met bijvoorbeeld halogeenlampen met een snelheid van enkele tientallen tot honderden °C per seconde worden verhit en gekoeld, en slechts enkele seconden aan temperaturen boven 1000 °C worden blootgesteld. Omdat de tijd bij hoge temperatuur kort is, kunnen na implantatie activeringsanneal en vorming van dunne oxidefilms worden uitgevoerd terwijl onzuiverheidsdiffusie wordt onderdrukt. Flash-lampanneal en laseranneal, waarbij de verhittingstijd verder is bekort tot milliseconden of minder, worden eveneens gebruikt voor het vormen van ondiepe overgangen in geavanceerde processen.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Oxidatie en diffusie

  1. Welke waarde ligt het dichtst bij de relatieve permittiviteit van met thermische oxidatie gevormde SiO2?
  2. Welke is een juiste belangrijke reden dat silicium veel als materiaal voor MOS-componenten is gebruikt?
  3. Welk probleem treedt op als de gate-oxidefilm mobiele ionen zoals natriumionen bevat?
  4. Welke n-type onzuiverheid diffundeert bij warmtebehandeling in silicium relatief langzaam en maakt het gemakkelijk ondiepe overgangen?
  5. Welke uitleg over pyrogene oxidatie (waterstofverbrandingsoxidatie) is juist?