Warmtebehandeling waarbij met laserlicht alleen de omgeving van het waferoppervlak gedurende zeer korte tijd wordt verhit. Levert hoge activering met vrijwel geen diffusie.
Japanse benaming: レーザーアニール
“Laseranneal” komt voor in 1 oefenvragen uit 1 onderwerpen, bijv. Oxidatie en diffusie.
Vakgebied: Ionenimplantatie
Antwoord: B. RTP (rapid thermal processing)
RTP is een warmtebehandeling waarbij wafers met bijvoorbeeld halogeenlampen met een snelheid van enkele tientallen tot honderden °C per seconde worden verhit en gekoeld, en slechts enkele seconden aan temperaturen boven 1000 °C worden blootgesteld. Omdat de tijd bij hoge temperatuur kort is, kunnen na implantatie activeringsanneal en vorming van dunne oxidefilms worden uitgevoerd terwijl onzuiverheidsdiffusie wordt onderdrukt. Flash-lampanneal en laseranneal, waarbij de verhittingstijd verder is bekort tot milliseconden of minder, worden eveneens gebruikt voor het vormen van ondiepe overgangen in geavanceerde processen.
Flash-lampanneal en laseranneal, waarbij de verhittingstijd verder is bekort tot milliseconden of minder, worden eveneens gebruikt voor het vormen van ondiepe overgangen in geavanceerde processen.
Hoe heet de warmtebehandeling waarbij wafers één voor één m…RTP (rapid thermal processing) Numerieke apertuur (NA) Channeling Dosis Faradaycup Gloeien (annealing) Halo-implantatie (pocket-implantatie) Ionenimplantatie Oplosbaarheid (solid solubility) Plasmadotering (plasma doping)