Techniek waarbij het maskerpatroon vooraf wordt gecorrigeerd om vervorming van het patroon door onder meer lichtdiffractie te compenseren.
Japanse benaming: OPC(光学近接効果補正)
“OPC (optical proximity correction)” komt voor in 11 oefenvragen uit 2 onderwerpen, bijv. Lithografie, LSI-ontwerpflow en EDA.
Vakgebied: Lithografie
Antwoord: C. Het maskerpatroon vooraf corrigeren zodat de afwijking in de vorm na de overdracht klein wordt
Bij patronen dicht bij de resolutiegrens krimpen lijnuiteinden door diffractie en interferentie van licht (line-end pullback), worden hoeken afgerond en verandert de lijnbreedte met de dichtheid van omliggende patronen. Bij OPC wordt deze vervorming met simulatie voorzien en worden aan de randen van het maskerpatroon hulpfiguren zoals hammerheads en serifs toegevoegd of afmetingen fijn bijgesteld. Voor geavanceerde maskers worden voor de OPC-berekening grootschalige computers gebruikt.
Bij OPC wordt deze vervorming met simulatie voorzien en worden aan de randen van het maskerpatroon hulpfiguren zoals hammerheads en serifs toegevoegd of afmetingen fijn bijgesteld.
Welke omschrijving van OPC (optical proximity correction) i…Voor geavanceerde maskers worden multibundelschrijvers met honderdduizenden elektronenbundels tegelijk gebruikt om OPC en gebogen patronen snel te schrijven.
Welk apparaat wordt vooral gebruikt om het patroon van een …In de jaren 90 was het ongeveer 0,6, maar door superresolutietechnieken zoals aangepaste belichting, phase-shift masks en OPC is het ook in massaproductie tot ongeveer 0,27-0,3 verlaagd.
Welke uitspraak over de coëfficiënt k1 in de resolutieformu…OPC en optimalisatie van belichtingsomstandigheden worden vooral uitgevoerd om dit te verbreden.
Hoe heet het bereik van voorwaarden waarbinnen de patroonaf…SMO (Source Mask Optimization) is een techniek die met een computer gezamenlijk de belichtingsvorm van het belichtingsapparaat (de verdeling van de lichtbron in het pupilvlak) en het maskerpatroon, inclusief OPC, optimaliseert om het procesvenster te verbreden.
Welke techniek verhoogt de resolutie door de belichtingsvor…Procesvenster Numerieke apertuur (NA) Fotomasker (reticle) Dosis GPU EUV-belichting Informatieverlies (absorptie) Tape-out Verilog SPICE