Was ist OPC (optische Proximity-Korrektur)?
Eine Technik, die Maskenmuster vorab korrigiert und dabei die Verzerrung des abgebildeten Musters durch Lichtbeugung und Ähnliches vorwegnimmt.
Japanische Bezeichnung: OPC(光学近接効果補正)
Fachgebiet: Lithografie
Verwandte Begriffe
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