Nederlands
Menu

Lithografie

Welke techniek verhoogt de resolutie door de belichtingsvorm van het belichtingsapparaat en het maskerpatroon met een computer gelijktijdig te optimaliseren?

  1. ASMO (source mask optimization)
  2. BCMP
  3. CALD
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. SMO (source mask optimization)

SMO (Source Mask Optimization) is een techniek die met een computer gezamenlijk de belichtingsvorm van het belichtingsapparaat (de verdeling van de lichtbron in het pupilvlak) en het maskerpatroon, inclusief OPC, optimaliseert om het procesvenster te verbreden. Ook ILT (inverse lithography technology), dat het masker terugrekent uit de gewenste vorm op de wafer en vrije gebogen patronen genereert, wordt sinds gebogen patronen met multibundelschrijvers kunnen worden geschreven in gebruik genomen. Omdat de rekenlast enorm is, wordt dit met onder meer GPU's versneld.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Lithografie

  1. Wat is de juiste reden dat bij immersiebelichting met een zeer grote numerieke apertuur (NA) rekening moet worden gehouden met de polarisatie van het licht?
  2. Wat is de juiste hoofdoorzaak van de „flare” die bij EUV-belichting een probleem is?
  3. Hoe heet het verschijnsel bij EUV-maskers waarbij de dikte van het absorberpatroon niet verwaarloosbaar is ten opzichte van de golflengte en schuin invallend licht een schaduw vormt en zo het beeld beïnvloedt?
  4. Hoe heten de zwakke plekken in een ontworpen layout waarvan in de simulatie van belichting en bewerking wordt voorspeld dat patronen gemakkelijk samenvloeien of afbreken?
  5. Wat is de belangrijkste reden dat gas dat uit resist vrijkomt (outgassing) bij EUV-belichting als probleem is beschouwd?

Vergelijkingen bij dit onderwerp