Lithografie
Welke omschrijving van OPC (optical proximity correction) is juist?
- AResist dik aanbrengen om de resolutie te verhogen
- BHet masker reinigen om vreemde deeltjes te verwijderen
- CHet maskerpatroon vooraf corrigeren zodat de afwijking in de vorm na de overdracht klein wordt
Antwoord en toelichting tonen
Antwoord: C. Het maskerpatroon vooraf corrigeren zodat de afwijking in de vorm na de overdracht klein wordt
Bij patronen dicht bij de resolutiegrens krimpen lijnuiteinden door diffractie en interferentie van licht (line-end pullback), worden hoeken afgerond en verandert de lijnbreedte met de dichtheid van omliggende patronen. Bij OPC wordt deze vervorming met simulatie voorzien en worden aan de randen van het maskerpatroon hulpfiguren zoals hammerheads en serifs toegevoegd of afmetingen fijn bijgesteld. Voor geavanceerde maskers worden voor de OPC-berekening grootschalige computers gebruikt.