OPC(光学近接効果補正)란?
おーぴーしー
光の回折などでパターンがゆがむのを見越して、マスクのパターンをあらかじめ補正しておく技術。
일본어 명칭: OPC(光学近接効果補正)
OPC(光学近接効果補正)은(는) IC 설계 흐름과 EDA 등 1개 분야의 연습 문제 2개에 나와요.
분야: 포토리소그래피
おーぴーしー
光の回折などでパターンがゆがむのを見越して、マスクのパターンをあらかじめ補正しておく技術。
일본어 명칭: OPC(光学近接効果補正)
OPC(光学近接効果補正)은(는) IC 설계 흐름과 EDA 등 1개 분야의 연습 문제 2개에 나와요.
분야: 포토리소그래피
정답: C. UVM(Universal Verification Methodology)
UVM은 SystemVerilog로 테스트벤치를 부품(입력을 주는 드라이버, 출력을 감시하는 모니터, 기댓값과 비교하는 스코어보드 등)의 조합으로 구성하기 위한 표준 방법론이자 클래스 라이브러리입니다. 부품을 다른 설계의 검증에도 재사용할 수 있고, 제약 조건 기반 랜덤 입력 생성이나 커버리지 수집을 쉽게 포함할 수 있습니다. IEEE 1800.2로 표준화되어 있습니다. OPC와 CMP는 제조 기술입니다.
OPC와 CMP는 제조 기술입니다.
SystemVerilog를 사용한 검증에서 재사용하기 쉬운 테스트 환경(테스트벤치)을 구성하기 위한 표준 …OPC는 노광 보정이며 검증이 아닙니다.
레이아웃 검증에서 입력 단자가 플로팅(어디에도 연결되지 않은 상태)되어 있지 않은지, 전원끼리 단락되지 않…SystemVerilog CMP DRC(デザインルールチェック) LVS 開口数(NA) 反射防止膜(BARC) 液浸露光 位相シフトマスク 焦点深度(DOF) 化学増幅型レジスト