Nederlands
Menu

Lithografie

Hoe heet het bereik van voorwaarden waarbinnen de patroonafmetingen binnen de toegestane marge blijven, ook als belichtingsdosis en focus veranderen?

  1. AProcesvenster (process window)
  2. BOverlay
  3. CLine edge roughness
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. Procesvenster (process window)

Het procesvenster is het bereik waarin de patroonafmetingen binnen de toegestane marge blijven (bijvoorbeeld ±10% van het doel) ook als belichtingsdosis en focus veranderen, en wordt weergegeven in een diagram (ED-window) met de dosis op de verticale en de focus op de horizontale as. In massaproductie fluctueren dosis en focus door variatie van het apparaat, oneffenheden van de wafer en veranderingen in resistdikte, dus hoe breder het venster, hoe stabieler er kan worden geproduceerd. OPC en optimalisatie van belichtingsomstandigheden worden vooral uitgevoerd om dit te verbreden.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Lithografie

  1. Wat wordt bij double patterning volgens de LELE-methode (litho-etch-litho-etch) bijzonder streng geëist?
  2. Wat is de golflengte van de i-lijn van een kwiklamp?
  3. Welke techniek verhoogt de resolutie van fijne patronen door het masker vanuit een schuine richting te belichten?
  4. Welke methode ontwikkelt positieve chemisch versterkte resist met een organisch oplosmiddel en lost de niet-belichte delen op?
  5. Welk voordeel van resist met metaaloxide, die voor EUV-belichting wordt ontwikkeld, is juist?

Vergelijkingen bij dit onderwerp