Nederlands
Menu

Lithografie

Welk apparaat wordt vooral gebruikt om het patroon van een fotomasker (reticle) te schrijven?

  1. AElektronenbundelschrijver
  2. BStepper
  3. CCMP-apparaat
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. Elektronenbundelschrijver

Het patroon van een fotomasker wordt gemaakt met een elektronenbundelschrijver, die een tot enkele nm gefocusseerde elektronenbundel rechtstreeks op de resist op het masker richt om te schrijven. Hiermee kunnen zonder masker zeer fijne patronen worden geschreven, maar omdat het in één streep wordt geschreven, kan één masker meer dan tien uur duren, en voor massaproductie wordt dus met maskers in één keer overgebracht. Voor geavanceerde maskers worden multibundelschrijvers met honderdduizenden elektronenbundels tegelijk gebruikt om OPC en gebogen patronen snel te schrijven.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Lithografie

  1. Wat is de rol van het dunne vlies (pellicle) dat op enige afstand boven het fotomasker wordt gespannen?
  2. Wat is het belangrijkste doel van de anti-reflectiefilm (BARC) die onder de resist wordt aangebracht?
  3. Welke eigenschap van „High-NA EUV”, ontwikkeld als volgende generatie EUV-belichtingsapparatuur, is juist?
  4. Welke maat geeft de oneffenheden op nanometerschaal aan op de zijkant van een fijn resistpatroon?
  5. Welke uitspraak over de coëfficiënt k1 in de resolutieformule R = k1 × λ / NA is juist?

Vergelijkingen bij dit onderwerp