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Dépôt (CVD et PVD)

Parmi les types d'équipements CVD, lequel ne chauffe que le support de la plaquette en maintenant les parois du réacteur froides ?

  1. ARéacteur à parois froides
  2. BRéacteur ouvert à l'atmosphère
  3. CRéacteur à parois chaudes
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Réponse : A. Réacteur à parois froides

Le réacteur à parois froides ne chauffe que la plaquette (ou le suscepteur) par lampes ou éléments chauffants et refroidit les parois : le dépôt sur les parois et les particules qui en proviennent sont réduits et les changements de gaz sont rapides. Il est utilisé dans les équipements d'épitaxie monoplaquette et le CVD de métaux. Le réacteur à parois chaudes, qui chauffe tout le four, offre une température uniforme et traite facilement de nombreuses plaquettes à la fois ; il est utilisé dans les fours à lots LPCVD, mais le film se dépose aussi sur les parois, ce qui exige un nettoyage périodique.

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