Schichtabscheidung (CVD, PVD)

Welcher CVD-Anlagentyp heizt nur den Tisch, auf dem der Wafer liegt, und hält die Reaktorwände kalt?

  1. ACold-Wall-Typ
  2. BAtmosphärisch offener Typ
  3. CHot-Wall-Typ
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Antwort: A. Cold-Wall-Typ

Beim Cold-Wall-Typ wird nur der Wafer (bzw. der Suszeptor) per Lampe oder Heizer erhitzt und die Wand gekühlt; daher gibt es weniger Schichtablagerungen und Partikel von der Wand, und das Umschalten der Gase ist schnell. Er wird in Einzelwafer-Epitaxieanlagen und bei Metall-CVD eingesetzt. Der Hot-Wall-Typ, der den gesamten Ofen heizt, hat dagegen eine gleichmäßige Temperatur und verarbeitet leicht viele Wafer gleichzeitig und wird in LPCVD-Batchöfen verwendet; da sich aber auch auf der Wand Schicht abscheidet, ist regelmäßige Reinigung nötig.

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