Dépôt (CVD et PVD)

Quel modèle organise, en fonction de la température et de la pression de gaz, la tendance des films métalliques pulvérisés à basse température de dépôt à former des grains colonnaires et une structure poreuse ?

  1. AModèle de zones de structure de Thornton
  2. BModèle de Poisson
  3. CModèle de Deal-Grove
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Réponse : A. Modèle de zones de structure de Thornton

Le modèle de zones de structure de Thornton (1974) montre comment, selon le rapport entre température du substrat et point de fusion du matériau (T/Tm) et la pression de gaz de pulvérisation, la structure du film évolue d'une structure colonnaire poreuse (zone 1) à une structure fibreuse dense (zone T), puis à de gros cristaux colonnaires (zone 2) et à des grains équiaxes recristallisés (zone 3). À basse température et haute pression, les atomes migrent peu en surface et le film est poreux ; ce modèle sert de repère pour la densité, la contrainte et la résistivité des films.

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