박막 증착(CVD와 PVD)

CVD 장비 방식 중 웨이퍼를 놓는 대만 가열하고 반응로 벽은 저온으로 유지하는 방식은?

  1. A콜드월형
  2. B대기 개방형
  3. C핫월형
정답과 해설 보기

정답: A. 콜드월형

콜드월형은 웨이퍼(또는 서셉터)만 램프나 히터로 가열하고 벽은 냉각해 두기 때문에, 벽에 대한 막 증착이나 거기서 발생하는 파티클이 적고 가스 전환도 빠르게 할 수 있습니다. 매엽식 에피 장비나 금속 CVD에서 사용됩니다. 한편 로 전체를 가열하는 핫월형은 온도가 균일하고 다수의 웨이퍼를 한 번에 처리하기 쉬워 LPCVD 배치로에서 사용되지만, 벽에도 막이 쌓이므로 정기적인 세정이 필요합니다.

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