Dépôt (CVD et PVD)
À matériau égal, en quoi un film de CVD thermique à haute température est-il généralement supérieur à un film PECVD ?
- ASa température de dépôt est plus basse
- BSa vitesse de dépôt est toujours plus élevée
- CIl est dense et contient peu d'impuretés comme l'hydrogène
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Réponse : C. Il est dense et contient peu d'impuretés comme l'hydrogène
En CVD thermique à haute température, les précurseurs réagissent complètement et forment un film dense, contenant peu d'impuretés comme l'hydrogène issu des précurseurs, de composition proche de la stœchiométrie. Par exemple, l'hydrogène d'un nitrure LPCVD est inférieur à quelques %, alors qu'un nitrure PECVD peut en contenir autour de 20 %. Le PECVD dépose à basse température, mais son film est moins dense et se grave plus vite ; on choisit selon les contraintes de température de l'étape et la qualité de film requise.