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Dépôt (CVD et PVD)

Quel est l'ordre de grandeur de l'épaisseur déposée par cycle d'ALD ?

  1. AEnviron 1 µm
  2. BEnviron 0.1 nm (une couche atomique ou moins)
  3. CEnviron 100 nm
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Réponse : B. Environ 0.1 nm (une couche atomique ou moins)

En ALD, chaque cycle dépose une couche atomique ou moins, environ 0,1 nm ; si les molécules de précurseur sont grosses, elles ne peuvent couvrir toute la surface et le dépôt est inférieur à une couche. Un cycle durant de quelques secondes à quelques dizaines de secondes, même un film de quelques nm exige plusieurs dizaines de cycles, soit quelques minutes à quelques dizaines de minutes. Pour compenser cette lenteur, on utilise des ALD par lots traitant plusieurs plaquettes simultanément ou des ALD spatiales où la plaquette tourne en traversant les zones de gaz.

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