박막 증착(CVD와 PVD)
동일한 재료의 막으로 비교했을 때, 고온 열 CVD막이 플라즈마 CVD막보다 일반적으로 우수한 점은?
- A성막 온도가 낮다
- B성막 속도가 반드시 빠르다
- C막이 치밀하고 수소 등의 불순물이 적다
정답과 해설 보기
정답: C. 막이 치밀하고 수소 등의 불순물이 적다
고온 열 CVD에서는 원료가 충분히 반응하여 치밀한 막이 만들어지고, 원료에서 유래한 수소 등의 불순물도 적으며, 조성도 화학양론에 가까워집니다. 예를 들어 LPCVD 질화막의 수소는 수 % 이하이지만, 플라즈마 CVD 질화막에서는 20% 안팎 포함되기도 합니다. 플라즈마 CVD는 저온에서 성막할 수 있는 반면 막이 성기고 식각 속도가 빠른 경향이 있으므로, 공정의 온도 제약과 필요한 막질에 따라 구분하여 사용합니다.