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Dépôt (CVD et PVD)

Que fait-on généralement pour augmenter la vitesse de dépôt en pulvérisation ?

  1. AAugmenter la puissance appliquée à la cible
  2. BAugmenter fortement la pression de gaz
  3. CAnnuler la puissance appliquée à la cible
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Réponse : A. Augmenter la puissance appliquée à la cible

Augmenter la puissance appliquée à la cible accroît le nombre et l'énergie des ions qui la frappent, donc le nombre d'atomes éjectés : la vitesse de dépôt croît à peu près proportionnellement à la puissance. Les cibles pour 300 mm peuvent recevoir plusieurs dizaines de kW. La majeure partie de la puissance se transformant en chaleur, la cible est refroidie à l'eau pour éviter l'échauffement, la fissuration et la fusion de la couche de collage, et l'on surveille l'effet sur la qualité du film.

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