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Dépôt (CVD et PVD)

Quelle technique exploite les différences entre matériaux de surface pour faire croître un film uniquement à des endroits déterminés ?

  1. APulvérisation cathodique
  2. BDépôt pleine plaque
  3. CDépôt sélectif par zone (area-selective deposition)
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Réponse : C. Dépôt sélectif par zone (area-selective deposition)

Le dépôt sélectif par zone exploite la différence de réactivité selon le matériau sous-jacent pour ne former le film qu'aux endroits voulus, par exemple sur le métal mais pas sur le diélectrique. On peut aussi recouvrir les surfaces à protéger d'une monocouche autoassemblée (SAM) qui empêche la réaction. Il réduit les étapes de lithographie et de gravure et élimine les erreurs d'alignement ; son application aux interconnexions fines notamment est étudiée.

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