Dépôt (CVD et PVD)
Quel est l'ordre de grandeur le plus approprié de l'épaisseur des films minces utilisés en fabrication de semi-conducteurs ?
- AQuelques nm à quelques µm
- BQuelques mm à quelques cm
- CQuelques m
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Réponse : A. Quelques nm à quelques µm
Les films déposés en fabrication de LSI vont de quelques nm (quelques dizaines d'atomes), comme les diélectriques de grille, à quelques centaines de nm voire quelques µm, comme les interconnexions et les diélectriques intercouches. 1 nm vaut 10⁻⁹ m et 1 µm 10⁻⁶ m ; ces films sont incomparablement plus minces qu'un cheveu (environ 80 µm). Les films les plus minces ne comptent que quelques couches atomiques et exigent, par ALD notamment, une précision d'environ ±0,1 nm.