Français
Menu

Dépôt (CVD et PVD)

Comment appelle-t-on la méthode consistant à pulvériser une cible de titane dans un gaz contenant de l'azote pour former un film de nitrure de titane (TiN) ?

  1. AÉvaporation sous vide
  2. BPulvérisation réactive
  3. CImplantation ionique
Afficher la réponse et l'explication

Réponse : B. Pulvérisation réactive

La pulvérisation réactive ajoute à l'argon un gaz réactif comme l'azote ou l'oxygène et fait réagir le métal pulvérisé avec ce gaz pour former des films de nitrure ou d'oxyde. Certaines cibles composées sont fragiles ou peu conductrices ; cette méthode a l'avantage d'obtenir un film composé à partir d'une cible métallique facile à manipuler, la composition étant réglée par le débit de gaz. Le TiN sert de barrière, de masque dur et d'ajustement du travail de sortie des grilles métalliques.

S'entraîner sur ce thème Retour au thème

Autres questions sur Dépôt (CVD et PVD)

  1. Quel est l'avantage de l'ALD assistée par plasma (PEALD) ?
  2. Dans un équipement CVD, quelle pièce distribue uniformément le gaz précurseur au-dessus de la plaquette à travers de nombreux petits trous ?
  3. Quelle méthode de dépôt remplit depuis le fond des tranchées très étroites et profondes avec un film fluide, puis le solidifie ?
  4. Que fait-on généralement pour augmenter la vitesse de dépôt en pulvérisation ?
  5. À matériau égal, en quoi un film de CVD thermique à haute température est-il généralement supérieur à un film PECVD ?

Comparatifs sur ce thème