成膜(CVD・PVD)
チタンのターゲットを窒素を含むガス中でスパッタし、窒化チタン(TiN)膜を形成する方法を何と呼ぶか。
- A真空蒸着
- B反応性スパッタリング
- Cイオン注入
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正解:B. 反応性スパッタリング
反応性スパッタリングは、アルゴンに窒素や酸素などの反応性ガスを加えてスパッタし、ターゲットからはじき出された金属とガスを反応させて、窒化物や酸化物の膜をつくる方法です。TiNはバリア層やハードマスク、メタルゲートなどに使われます。
成膜(CVD・PVD)
正解:B. 反応性スパッタリング
反応性スパッタリングは、アルゴンに窒素や酸素などの反応性ガスを加えてスパッタし、ターゲットからはじき出された金属とガスを反応させて、窒化物や酸化物の膜をつくる方法です。TiNはバリア層やハードマスク、メタルゲートなどに使われます。