成膜(CVD・PVD)

チタンのターゲットを窒素を含むガス中でスパッタし、窒化チタン(TiN)膜を形成する方法を何と呼ぶか。

  1. A真空蒸着
  2. B反応性スパッタリング
  3. Cイオン注入
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正解:B. 反応性スパッタリング

反応性スパッタリングは、アルゴンに窒素や酸素などの反応性ガスを加えてスパッタし、ターゲットからはじき出された金属とガスを反応させて、窒化物や酸化物の膜をつくる方法です。TiNはバリア層やハードマスク、メタルゲートなどに使われます。

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