박막 증착(CVD와 PVD)

티타늄 타깃을 질소를 포함한 가스 속에서 스퍼터하여 질화티타늄(TiN)막을 형성하는 방법을 무엇이라고 합니까?

  1. A진공 증착
  2. B반응성 스퍼터링
  3. C이온 주입
정답과 해설 보기

정답: B. 반응성 스퍼터링

반응성 스퍼터링은 아르곤에 질소나 산소 같은 반응성 가스를 더해 스퍼터하여 금속과 가스를 반응시켜 질화물이나 산화물 막을 만드는 방법입니다. 화합물 타깃은 깨지기 쉽고 전기가 잘 통하지 않는 것도 있어, 다루기 쉬운 금속 타깃으로 화합물 막을 얻을 수 있다는 장점이 있으며, 가스 유량으로 조성을 조정할 수 있습니다. TiN은 배리어층, 하드마스크, 메탈 게이트의 일함수 조정 등에 사용됩니다.

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