Hoe heet de methode waarbij een titaniumtarget in een stikstofhoudend gas wordt gesputterd om een titaniumnitridelaag (TiN) te vormen?

Antwoord: B. Reactief sputteren

Reactief sputteren is een methode waarbij aan argon een reactief gas zoals stikstof of zuurstof wordt toegevoegd en bij het sputteren metaal en gas reageren tot een nitride- of oxidelaag. Targets van verbindingen breken gemakkelijk of geleiden slecht, dus het voordeel is dat uit een goed hanteerbaar metaaltarget een verbindingslaag kan worden verkregen, en de samenstelling kan met de gasstroom worden ingesteld. TiN wordt gebruikt voor barrièrelagen, hardmaskers en het afstemmen van de werkfunctie van metaalgates.