Was ist Transient verstärkte Diffusion (TED)?

Vorübergehende Beschleunigung der Diffusion von Bor und anderen Dotierstoffen zu Beginn des Ausheilens nach der Implantation, verursacht durch überschüssige Silizium-Zwischengitteratome aus der Implantation. Sie erschwert flache Übergänge.

Japanische Bezeichnung: 過渡増速拡散(TED)

Fachgebiet: Ionenimplantation

Vergleiche mit diesem Begriff

Thermische Diffusion vs. Ionenimplantation: Dotierverfahren im VergleichThermische Diffusion und Ionenimplantation im Tabellenvergleich: Prinzip, Dosiskontrolle, Tiefenprofil, Tempe…

Verwandte Begriffe

Abschattung (Shadowing) Ausheilen (Annealing) Channeling (Kanaleffekt) Faraday-Becher (Faraday Cup) Festkörperlöslichkeit Halo-Implantation (Pocket-Implantation) Implantationsdosis Ionenimplantation Laser-Anneal Plasmadotierung (Plasma Doping)

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