Ionenimplantation
Überprüfen Sie mit Multiple-Choice-Fragen Energie und Dosis der Ionenimplantation, das Ausheilen nach der Implantation und die Vermeidung von Channeling.
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Die Fragen zu diesem Thema folgen in Kürze.
Ionenimplantation: Das Wichtigste
Bei der Ionenimplantation werden Fremdatome ionisiert, in einem elektrischen Feld beschleunigt und in den Wafer geschossen. Da sich Dosis und Tiefe präzise steuern lassen, ist sie heute das wichtigste Verfahren zum Einbringen von Dotierstoffen.
Die implantierten Ionen schädigen den Kristall, daher wird der Wafer nach der Implantation ausgeheilt (Annealing), um den Kristall wiederherzustellen und die Dotierstoffe elektrisch zu aktivieren. Verstehen Sie auch, was die Implantationstiefe bestimmt und wie Channeling verhindert wird.