Was ist Plasmadotierung (Plasma Doping)?

Implantation niederenergetischer Ionen, indem der Wafer direkt einem dotierstoffhaltigen Plasma ausgesetzt wird. Sie liefert hohe Dosen schnell und dotiert 3D-Strukturen wie Finnen recht gleichmäßig.

Japanische Bezeichnung: プラズマドーピング

Fachgebiet: Ionenimplantation

Verwandte Begriffe

Abschattung (Shadowing) Ausheilen (Annealing) Channeling (Kanaleffekt) Faraday-Becher (Faraday Cup) Festkörperlöslichkeit Halo-Implantation (Pocket-Implantation) Implantationsdosis Ionenimplantation Laser-Anneal Projizierte Reichweite

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